全自动Wafer2D+3D光学检测机台
设备功能
1、该设备主要用于晶圆封测段工序进行外观检查
2、兼容8〞, 12〞晶圆,涵盖2D和3D检测
3、2D光学系统可自适应调整光强,涵盖2X 5X 10X 20X四种倍率,自动切换镜头
4、自动光学聚焦,自动光学矫正,最大可兼容翘曲15mm
5、采用黑白视觉检测系统及彩色视觉复检系统,分辨率高达2000W Pixel
6、高速高精度线光谱共焦传感器,支持3D量测,自动一键校准
7、自动上下片及晶圆Pre-aligner,兼容切割前裸片及切割后铁环上检测
8、兼容FOUP/Cassette机构,Wafer状态自动读取
9、晶圆ID读取功能、barcode读取功能
10、AI视觉检测算法,已测试样本量超100万,自动生成异常MAP
11、新料导入时间2小时,异常样本自动收集、上传
应用领域
具有完全自主知识产权的封测段晶圆外观检测设备,主要应用于第三代半导体成熟制程工艺及MicroLED、MiniLED等新型显示后道工艺晶圆检测。采用纳米光子学、计算成像、多电子束扫描以及深度学习等新兴技术,实现对晶圆切割前、后的外观检查,以及BGA、Bumping等的3D量测



